半自動超聲波清洗機 適用于硅片的超聲波化學(xué)清洗使用；清洗對象:研磨后的硅片超聲波清洗;清洗數(shù)量:1筐/15分鐘,100片/1筐,400片/小時,9600片/24小時。設(shè)備結(jié)構(gòu):此設(shè)備腐蝕清洗裝置主要由水平通過式化學(xué)液,清洗主體(槽體部分/管路部分等),抽風(fēng)系統(tǒng),電控及操作臺面等部分組成;設(shè)備工藝流程:根據(jù)設(shè)備所放場地布置要求(與采購方溝通確定),設(shè)備走向統(tǒng)一采用‘左進(jìn)右出’方式;操作時由操作人員左手手動上料→經(jīng)純水超聲拋動清洗→化學(xué)液超聲拋動→化學(xué)液超聲拋動→純水超聲拋動清洗→化學(xué)液超聲拋動→化學(xué)液超聲拋動→純水超聲拋動清洗→化學(xué)液超聲拋動→化學(xué)液超聲拋動→純水超聲拋動清洗→純水鼓泡漂洗→合格后經(jīng)操作人員右手邊手動下料;安全門：進(jìn)口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動門（對開/推拉式）,保證設(shè)備外部環(huán)境符合勞動保護(hù)的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),以保證設(shè)備操作人員及其周圍工作人員的身體健康；

8. 全自動硅片超聲波清洗設(shè)備 主要功能是對切片后硅片的超聲波清洗,HCL酸腐蝕,QDR純水噴淋清洗;在同一臺設(shè)備上完成;設(shè)備干燥系統(tǒng)配有2臺6籃硅片甩干設(shè)備（干燥也可選擇在清洗線上配氮氣吹干槽）；設(shè)備結(jié)構(gòu):此設(shè)備腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,進(jìn)出料裝置,抽風(fēng)系統(tǒng),電控及操作臺等部分組成;移動機械傳送裝置:采用***進(jìn)口不銹鋼絲杠水平左右移動,與日本SMC不銹鋼絲杠/氣缸垂直上下移動相結(jié)合;移動機械傳送裝置工作走向:根據(jù)設(shè)備所放場地布置要求(與采購方溝通確定),設(shè)備走向統(tǒng)一采用‘左進(jìn)右出’(左側(cè)進(jìn)料,右側(cè)出料)方式;操作時由操作人員左手上料工位準(zhǔn)備區(qū)人工上料→經(jīng)超聲波清洗→腐蝕→漂洗→漂洗→(甩干機干燥)工藝處理合格后經(jīng)操作人員右手邊下料工位準(zhǔn)備區(qū)人工下料;